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设备产品

原子层蚀刻设备

 

 

原子层蚀刻(ALE)是一种先进的蚀刻技术,可精准的控制其蚀刻深度。随着元件尺寸的进一步减小,需要进一步的使用ALE才能达到其所需的精度。

 

这就引起了人们对被称为原子级蚀刻(ALE)的技术的关注,该技术克服了原子级常规蚀刻的局限性。基于电浆的原子层蚀刻是气体以定量注入和离子轰击的周期性蚀刻过程,并具有去除单个薄膜层、极低的损坏率等优点。

SYSKEY的系统可以精准的控制制程气体与电浆制程,并提供高精准度的薄膜蚀刻。

                3D 鳍式场效电晶体

 


 

应用领域 腔体
  • 矽化合物蚀刻SiO2、SiN4)。
  • 微机电系统。
  • 金属、矽与光阻蚀刻。
  • 阳极电镀处理铝腔。
  • 通过使用水冷系统、加热器或加热包来控制腔体温度。
配置和优点 选件
  • 客制化的基板尺寸,最大直径可达12吋。
  • 蚀刻系统中,ICP、RIE、ALE与DRIE可在同一腔内。
  • 优异的薄膜均匀度小于±3%。
  • 具有高均匀气体分布的质量流量控制器。
  • 稳定的温度控制,将载台加热至200°C或冷却至-20°C。
  • 使用Tornado ICP线圈,ICP电浆高达2000W,可增强低温下的沉积。
  • 由于使用低能量进行蚀刻,其损伤率也是较低的。
  • 基板具有氦气冷却之功能,均匀的控制温度。
  • 均匀的气体扩散,具有优化的气体分布。
  • ​静电吸盘。
  • 蚀刻终点侦测(OES,激光)相容性。
  • 可以与传送腔、机械手臂和手套箱整合在一起。

 

 

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