+886-3-5590169
+886-3-5574282
info@syskey.com.tw

设备产品

金属热蒸镀设备

 

 

 

热蒸发是物理气相沉积(PVD)中最常用方法,也是PVD最简单的形式之一。使用电加热的蒸发源可用于沉积大多数的有机和无机薄膜,其中以电阻式加热法最为常见的。这些蒸发源的优点为它们可以提供一种简单的薄膜沉积方法,以电流通过其容纳材料的舟为方式,从而加热材料。当沉积材料的蒸气压超过真空室的温度时,材​​料将开始蒸发并沉积到基板上。

SYSKEY的热蒸发可以精准的控制蒸发速度,且薄膜的厚度和均匀度小于+/- 3%。

 

 

 

 

離子源可用於基板清潔和加速材料的蒸發速度,並且離子源在材料沉積過程中可幫助沉積並使沉積後的薄膜更為緻密。

 

 

 

 


 

应用领域 腔体
  • 金属材料研究。
  • 奈米薄膜。
  • 太阳能电池。

 

  • 客制化的腔体尺寸取决于基板尺寸和其应用。
  • 宽大的前开式门,并有两个视窗和视窗遮版用于观察基材和蒸发源。
  • 腔体的极限真空度约为10-8 Torr。
配置和优点 选件
  • 客制化的基板尺寸,最大直径为12寸晶圆或470 x 370 mm2(玻璃)。
  • 宽大的前开式门,并有两个视窗和视窗遮版用于观察基材和蒸发源。
  • 优异的薄膜均匀度小于±3%。
  • 具有顺序操作或共沉积的多个蒸发源。
  • 基板可加热到800°C。
  • 利用载台旋转来改善薄膜沉积之品质。
  • 基板至蒸发源之间距为可调式的。
  • 每个蒸发源和基材均有安装遮板。
  • ​可以与传送腔、机械手臂和手套箱整合在一起。
  • 结合离子源、溅镀枪、电子束、等离子清洁...。
  • 基板冷却。
  • 残留气体分析仪。