热蒸镀设备
热蒸发制程是用于沉积材料中最简单的物理气相沉积。将材料置于真空环境中的蒸发源中,使其加热并蒸发,以最直接的方式蒸发到基板上,然后在基板上凝结成固体形成薄膜。热蒸发比溅镀提供更快的蒸发速率,但其容纳材料的乘载器尺寸有限,并且难以控制其蒸发速率。
金属热蒸镀设备
热蒸发是物理气相沉积(PVD)中最常用方法,也是PVD最简单的形式之一。使用电加热的蒸发源可用于沉积大多数的有机和无机薄膜,其中以电阻式加热法最为常见的。这些蒸发源的优点为它们可以提供一种简单的薄膜沉积方法,以电流通过其容纳材料的舟为方式,从而加热材料。当沉积材料的蒸气压超过真空室的温度时,材料将开始蒸发并沉积到基板上。
SYSKEY的热蒸发可以精准的控制蒸发速度,且薄膜的厚度和均匀度小于+/- 3%。
離子源可用於基板清潔和加速材料的蒸發速度,並且離子源在材料沉積過程中可幫助沉積並使沉積後的薄膜更為緻密。
应用领域 | 腔体 |
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配置和优点 | 选件 |
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