电浆原子层沉积设备
电浆辅助式原子级沉积(PEALD)是一种基于常规ALD的先进方法,其利用电浆作为裂化前驱物材料的条件,而不是仅依靠来自加热基板的热能。制程中只需靠电浆来进行裂化前驱物材料,无需高温来传递必要的活化能。 SYSKEY的系统可以精准的控制电浆与ALD的制程,薄膜的厚度和均匀度皆+/- 1%。
SONOS Memory / MOS Devices Demo
High-k Films for GaN Power Device
应用领域 | 腔体 |
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配置和优点 | 选件 |
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