电子束蒸发系统为一种物理气相沉积（PVD）技术，其技术比热蒸发更具有优势。它能够在非常高的温度下熔化材料，如钨、石墨...等等。结合石英震荡片的反馈信号，可轻松控制蒸发速率，以调节电子束电流并蒸发更多材料而不会破坏真空。

超高真空环境为其真空压力低于10的-8至10的-12 Torr，真空环境对于研究非常重要，表面应保持无污染并使用较低能量的电子和离子的实验技术使用。

在半导体制程中，当遇到不易使用蚀刻方式来完成想要的电路图案时，就可以采用 Lift-Off制程来做出想要的金属图案。在此过程中，电子束蒸发于在基板表面上沉积所需的薄膜层于牺牲层与基材上，最终在洗去其牺牲层，以得到其电路图案。