电子束蒸镀设备
电子束蒸发其电子束是由钨丝所产生,并受到电场和磁场的驱动而朝向蒸发材料,当电子与材料撞击时,电子的动能将转换成热能,及加热材料,使材料由固态转化为气态以沉积在基板表面上。且该过程需在高真空环境中,通过自由路径的方式在基板表面上形成薄膜。
电子束蒸镀
电子束蒸发系统为一种物理气相沉积(PVD)技术,其中电子束是由钨丝所产生的,并受到电场和磁场的驱动而朝向蒸发材料,并将其材料由固态转化为气态以沉积在基板表面上。且该过程需在高真空环境中,以通过自由路径的方式在基板表面上形成薄膜。
电子束蒸发比热蒸发更具有优势。它能够在非常高的温度下熔化材料,如钨、石墨...等等。结合石英震荡片的反馈信号,可轻松控制蒸发速率,以调节电子束电流并蒸发更多材料而不会破坏真空。因此,电子束蒸发用于薄膜制程领域,包括半导体、光学、太阳能电池板、玻璃和建筑玻璃,因此它们具有所需的导电,反射,透射和电子等特性。