Электронно-лучевое напыление
Электронный луч генерируется в электромагнитном поле с помощью вольфрамовой нити. Под воздействием энергии луча материал источника испаряется и осаждается на поверхность подложки.
E-Beam для Lift-off
«Lift-Off» – это процесс создания топологии на поверхности подложки, обратный процессу травления. В этом процессе электроннолучевое напыление используется для получения требуемого слоя (например, металла) на поверхности подложки.
Конструктивное исполнение подложкодержателя с водяным
или азотным охлаждением для Lift-Off-процесса.
В установке производства компании Syskey можно контролировать скорость напыления, толщину пленки, а однородность составляет менее ±3%.
Этапы процесса Lift-off:
1. Подготовка подложки.
2. Нанесение жертвенного слоя для шаблона.
3. Формирование рисунка шаблона (ex. травление), создание обратной структуры.
4. Напыление целевого материала.
5. Удаления жертвенного слоя вместе с целевым материалом на его поверхности.
6. Слои:
①Подложка
②Жертвенный слой
③Целевой материал
Область применения | Вакуумная камера |
|
|
Конфигурации и преимущества | Опции |
|
|