магнетронного напыления
Магнетронное напыление – это метод нанесения тонких пленок посредством распыления материала мишени в плазме магнетронного разряда.
Совместное напыление
Совместным (англ. Co-Sputtering) называется одновременное напыление различных материалов двух или более мишеней. Используется при необходимости получения многокомпонентного соединения – сплава или композитного материала. Формирование тонкой плёнки контролируется путём оптимизации удельной мощности (плотности) каждого испарителя (магнетрона). Толщина такой тонкой плёнки зависит от времени напыления. Системы совместного напыления SYSKEY предоставляют точное управление и контроль за состоянием нескольких процессов магнетронного напыления, обеспечивая нашим заказчикам лучшее качество композитных плёнок.
Установка магнетронного напыления SYSKEY оборудована камерой с одиночной или кассетной загрузкой подложек, которая может сэкономить время рабочего процесса за счёт вакуумной .
Установка магнетронного напыления SYSKEY может независимо подавать напряжение смещения на неподвижные модули камеры для очистки и увеличения адгезии материала.
Ионный источник может быть использован для очистки подложки и увеличения скорости осаждения материала, а ионный луч помогает в напылении и уплотнении получаемых во время процесса плёнок.
Область применения | Вакуумная камера |
|
|
Конфигурации и преимущества | Опции |
|
|