Электронно-лучевое напыление
Электронный луч генерируется в электромагнитном поле с помощью вольфрамовой нити. Под воздействием энергии луча материал источника испаряется и осаждается на поверхность подложки.
E-Beam в сверхвысоком вакууме
Установка сверхвысоковакуумного электроннолучевого напыления (UHV E-beam) характеризуется значениями давления ниже, чем 10-8 - 10-12 Торр, и обычно используется для проведения химических, физических и инженерных экспериментов.
Сверхвысоковакуумная среда очень важна для научных исследований, поскольку такие опыты зачастую требуют поддержания поверхностей в полностью свободном от любых загрязнений состоянии на протяжении всего процесса, а также использование низкоэнергетических электронных и ионных экспериментальных методов без чрезмерных помех от рассеивания от газовой фазы. Установка сверхвысоковакуумного электроннолучевого напыления производства Syskey позволяет получать высококачественные тонкие пленки.
Поворотный механизм напыления подложки для условий сверхвысокого вакуума и высокотемпературного нагрева, использует керамические вращательные элементы, а также замкнутое водяное охлаждение для защиты механизма и обеспечения его надёжной работы на долгий срок.
Область применения | Вакуумная камера |
|
|
Конфигурации и преимущества | Опции |
|
|