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设备产品

超高真空电子束蒸镀设备

超高真空环境的特征为其真空压力低于10-8至10-12 Torr,在化学物理和工程领域十分常见。超高真空环境对于科学研究非常重要,因为实验通常要求,在整个实验过程中,表面应保持无污染状态和使用较低能量的电子和离子的实验技术的使用,而不会受到气相散射的过度干扰。在这样超高真空环境下使用电子束蒸镀,SYSKEY可以提供高品质的薄膜。

 

 

 

 

 

 

 

针对超高真空和高温加热设计基板旋转镀膜机构,使用陶瓷培林旋转,并在内部做水冷循环来保护机构以确保长时间运转的稳定性。

 

 

 


 

应用领域 腔体
  • 光学材料研究(LED/Laser Diode)。
  • 光电元件。
  • 半导体元件。
  • 客制化的腔体尺寸取决于基板尺寸和其应用。
  • 腔体为使用金属密封圈并可烘烤至150oC。
  • 腔体的极限真空度约为10-10Torr。
配置和优点 选件
  • 客制化的基板尺寸,最大直径可达8吋晶圆。
  • 优异的薄膜均匀度小于±3%。
  • 具有水冷坩埚的多组坩锅旋转电子束源(1/2/4/6坩埚)。
  • 自动镀膜系统。
  • 具有顺序操作或共沉积的多个电子束源。
  • 基板具有冷却(液态氮温度低至-70°C)或加热(温度最高800°C)等功能。
  • 可以与传送腔、机械手臂和手套箱整合在一起。
  • 结合离子源、溅镀枪、热蒸发源、等离子清洁...。